半導体向けケミカル装置の研究開発をご担当いただきます。
【具体的には】
お客様との技術ディスカッションにより決定した開発方針から課題を具体化し、それら課題現象を解決することで、ハードウエアの設計指針を決定します。
その後、事業部門に移管した後に、事業部門および海外グループ開発会社メンバーと連携しお客様の満足度向上、事業推進に貢献していくお仕事になります。
■必須要件
・大学レベルの物理・化学の基礎知識
■歓迎要件
・真空装置（CVD、ALD、Etcher）の取り扱い経験
・英語 TOEIC 600点以上
・真空装置メーカーもしくは装置を取り扱った経験が
ある方
・高周波Plasmaに関する知見、取り扱いの経験が
ある方
・国際学会での発表、論文投稿経験がある方
・海外出張可能な方
■資格
・運転免許（通勤のため）
【選考フロー】 面接…２回（通常）
書類選考
↓
１次面接
↓
２次面接(最終)
↓
正式内定
※１次面接前までに適性検査をWebにて受検いただきます
■雇用形態：正社員
■給与形態：月給制
■年収：500万円 ～ 800万円（年齢、経験、能力を考慮し決定）
■昇給：年1回（7月）
■賞与：年2回（3月、9月）
■諸手当：時間外手当（管理職採用の場合は除く）、通勤手当
食事手当、住宅費補助特別手当、慶弔金他
■福利厚生：社員食堂、財形貯蓄制度、各種契約施設利用制度、
車通勤可(社内規程あり)、時差出勤勤務時間選択制度、在宅勤務制度、
有給休暇積立制度、住宅資金融資制度、団体割引生命保険、
クラブ活動、社員持株会制度、永年勤続表彰制度、
確定給付企業年金制度、出張手当（国内・海外）など
■勤務時間：08:30 ～ 17:05（昼休み12:00 ～ 12:50）
※上記は通常の定時間です。
研究所はフレックスタイム制を採用しています。
■所定労働時間：7時間45分
■各種保険：健康保険、雇用保険、労災保険、厚生年金、死亡保障保険・医療保険・所得補償保険
■年間休日：126日（2026年）／完全週休2日制（企業カレンダーあり）
■休暇：GW、夏季、年末年始、慶弔、年次有給、他
（年次有給休暇は入社日から20日付与します）
※ GW休暇は、前年秋に労働組合と「翌年 年間就労日」を協議する中
で決めています。
※ 夏季休暇は一斉ではなく、5月～10月に自身および所属部課の
業務負荷を考慮した上で、個々に取得可能（有給休暇）。
連続した3日の夏季休暇に有給休暇2日を加えることを会社として
奨励していますので、前後の土日を繋ぐことで
9連休とすることも可能です。
【中途採用比率】
2024年度（72％）、2023年度（78％）、2022年度（77％）
■静岡県 富士裾野事業所
■所在地：静岡県裾野市須山1220-1
■交通：JR御殿場線「岩波駅」
※車通勤可。無料駐車場あり
