ポジション概要/役割：
ナノテクノロジー事業本部では前工程の最先端のフォトマスクを測定するEB計測製品（CD-SEM,DR-SEM)を開発しており、下記のソフトウエアの開発および保守を行っていただきます。
業務内容：
本ポジションでは、フォトマスクのパターン計測装置および欠陥レビュー装置を制御する
ソフトウェア開発を担当していただきます。
下記のような半導体製造の最先端の市場要求に応えるべく、
・精密装置を制御するソフトウェア
・測定データを扱うアルゴリズム設計
・画像処理／AIを用いた解析技術
を組み合わせ、実際の製造現場で使われる製品ソフトウェアの開発に携わっていただきます。
自らの技術が、次世代半導体の性能と品質を支える、大きなやりがいと成長を実感できるポジションです。
半導体は、スマートフォンやAI、データセンター、自動運転など、あらゆる先端技術を支える基盤です。その半導体製造において、EUV露光装置をはじめとする最先端の露光技術の性能を左右する重要な要素が、「フォトマスク」と呼ばれる原版です。近年、半導体の高性能化に伴い、フォトマスク上のパターンは極限まで微細化・高密度化が進み、曲線を含む非常に複雑な形状（Curvilinearパターン）が主流となっています。その結果、従来では対応できない高精度かつ高スループットな計測技術が求められています。また、フォトマスク上の微小な欠陥や異物は、製品不良や歩留まり低下に直結するため、欠陥の自動レビュー、画像処理、AI、元素分析技術へのニーズも急速に高まっています。
変更の範囲：会社の定める業務
必須条件：
・ソフトウェア開発経験３年以上（使用言語：C++／C#／VB いずれか）
※ 半導体業界の経験は問いません。
歓迎条件：
・以下いずれかの分野におけるソフトウェア開発経験
‐ ハードウェア制御ソフトウェア
‐ GUIアプリケーション開発
‐ 画像処理
‐ Deep Learning／機械学習
・3次元計測データ解析（点群データを含む）
・英語によるメールの読み書きに抵抗がない方
（目安：TOEIC 450点以上）
当ポジションのやりがい：
・C++を中心とした大規模ソフトウェア開発に腰を据えて取り組み、製品開発を通じて高い技術力を磨くことができます。単なる仕様実装にとどまらず、課題の本質を捉え、解決策を設計するエンジニアリング力を身につけられます。
・画像処理やAIなどの最新技術を活用し、研究要素と製品実装の両方を含む最先端ソフトウェア開発に携われます。
・キャリア採用メンバーも多く、専門性を深めてスペシャリストを目指せる環境が整っています。また、意欲と実績に応じて挑戦できる、自己推薦制のマネージャ昇進プログラムがあります。
・SE、開発、製造、サービス部門に加え、海外拠点のR&D部門とも連携しながら開発を進めます。また、海外の顧客や同僚と協働する機会があり、グローバルな視点での開発経験を積むことができます。
・世界トップレベルの技術力を持つ半導体メーカーの顧客と直接対話しながら製品を作り上げる経験が得られます。最先端半導体製造分野に対し、エンジニアとして貢献できます。
・テレワークは原則週2回まで可能。個別の事情に応じて柔軟な働き方にも対応しています。
働き方：
・想定残業は月30h程度です。
・フレックス／在宅勤務を実施中。※フルリモートは不可。
出張：国内外・頻度回数など実情に基づいて記載願います。
募集人数：1名
その他：
学歴：高専卒以上
勤務地：弊社 埼玉R&Dセンタにて勤務
埼玉R&Dセンタ／埼玉県加須市新利根1-5
最寄り駅：JR宇都宮線 栗橋駅 マイカー通勤可
変更の範囲：会社の定める事業所
