＜必須要件＞
・化学／材料分野での研究開発経験3年以上
・英語での論文／文献の読み書き、資料作成の実務経験（またはTOEIC目安500点以上）
・チームリーダーやマネジメントの経験（※主任、係長クラスでの採用の場合のみ必須）
＜歓迎要件＞
・化学の知見（特に下記いずれかの分野歓迎）
物理化学、コロイド化学、界面化学、高分子化学、レオロジー、トライボロジー、溶液化学、反応工学、プロセスシステム工学、
電気化学、錯体化学、金属工学、材料組織学、破壊力学、組成力学、腐食防食学、材料加工学、触媒、分析化学
・品質工学、統計学の知見
・半導体、電子デバイス関連の材料開発経験（研磨材、洗浄剤、めっき液等）
・水系洗浄剤、界面活性機能を利用した材料開発経験
・溶媒への固体分散、エマルジョンや固液界面処理にかかわる材料開発経験
・顧客との直接折衝を伴う開発経験
・量産移管業務の経験
■ポジション
メンバー～係長クラス
■年収目安
メンバークラス：570万円～720万円
主任クラス ：750万円～840万円
係長クラス ：850万円～940万円
※上記レンジ内で経験・年齢・能力を考慮の上、決定致します。
※上記年収には残業手当を含んでおります。想定残業時間20時間/月として試算。
固定ではなく勤務実績に応じての支給。
■勤務地
研究開発センター
〒509-0109 岐阜県各務原市テクノプラザ1-8
■配属先部署
＜下記いずれか＞
①CMP開発課・・・半導体デバイスウェハー用のCMPスラリー開発
➁シリコン開発課・・・半導体基板シリコンウェハー用の研磨スラリー開発
➂半導体新規事業課・・・パワー半導体基板用の研磨スラリー開発
■就業時間
始業 8:00 終業 17:00 休憩：1時間
■選考プロセス
書類選考→一次面接→適性テスト→最終面接
※全てWebにて実施
■備考
勤務地の変更の範囲：海外含む当社拠点全て
仕事内容の変更の範囲：当社業務全般
受動喫煙対策：屋内禁煙（敷地内に喫煙場所あり）
